超聲波清洗機QDR清潔工藝特點
發布日期：2022-08-12 00:00 來源：http://www.54tt.net 點擊：
超聲波清洗機QDR清潔工藝特點
一、噴淋清洗
上噴管有兩條路，產生交叉噴霧，但去離子水不應直接噴水清洗晶圓表面，因為晶圓在水侵蝕下直接噴水晶表面，容易產生顆粒淤泥，污染晶圓表面，因此，在去離子水噴水環節中，需要調整清洗壓力、水量、方向和視角，以達到較好的顆粒污染效果。良好的噴嘴噴涂類別包括所有晶圓和片盒；不良的噴涂清洗形狀不覆蓋所有晶圓和片盒，盲區區域、顆粒、雜質和化學物質仍然很高，不能達到良好的清洗效果。
二、鼓包沖浪清洗
同時，下噴管道繼續從底部兩側進水，然后從內槽周圍溢出，使每個晶圓縫和邊緣的去離子水不斷升級。同時，純粹氣體（氮氣或空氣壓縮）自下噴淋管路進到槽體。鼓包有以下幾個功效：
（1）增強了去離子水的沖刷力，對槽體自身有很好的自清洗功效；
(2)晶圓在流水中晃動，氣泡不能附著在其上，提高了清洗效果；
（3）N去離子水中的氧含量降低，避免在晶圓表面產生氧化物。
三、超音波清洗
QDR增強了超音波作用選項，通過式噴淋清洗線與鼓包沖浪清洗更替功效，極大的提升了清洗效率，并有效降低DI水的使用量。典型的運用方法是：上噴淋+排出→上噴淋+下進水→超聲+上噴淋+溢流→鼓包+上噴淋+溢流→快排出
四、快沖快排
噴淋灌滿水時間和排水時間，對晶圓清洗品質有很大影響。因為暴露在空氣中的晶圓表面會接觸到空氣中的氧原子或水蒸氣，一層非常薄的氧化層(約0.5~1nm），這種天然氧化物的厚度與暴露在空氣中的時間有關。因此，霧化超聲波清洗線噴水時間越長，晶圓暴露在空氣中的時間越長，形成的氧化層越厚，對晶圓清洗非常不利。QDR排水的時間越少，排水流速就會越大，有益于去離子水帶去晶圓表面里的顆粒雜質。因而，在QDR在設計中，要盡量減少噴灌時間和排水時間，完成快沖快排，提高整體效率。超音波的QDR快排及注水時間指標為：注入時間：≤120秒，排出時間：≤12秒。
一、噴淋清洗
上噴管有兩條路，產生交叉噴霧，但去離子水不應直接噴水清洗晶圓表面，因為晶圓在水侵蝕下直接噴水晶表面，容易產生顆粒淤泥，污染晶圓表面，因此，在去離子水噴水環節中，需要調整清洗壓力、水量、方向和視角，以達到較好的顆粒污染效果。良好的噴嘴噴涂類別包括所有晶圓和片盒；不良的噴涂清洗形狀不覆蓋所有晶圓和片盒，盲區區域、顆粒、雜質和化學物質仍然很高，不能達到良好的清洗效果。
二、鼓包沖浪清洗
同時，下噴管道繼續從底部兩側進水，然后從內槽周圍溢出，使每個晶圓縫和邊緣的去離子水不斷升級。同時，純粹氣體（氮氣或空氣壓縮）自下噴淋管路進到槽體。鼓包有以下幾個功效：
（1）增強了去離子水的沖刷力，對槽體自身有很好的自清洗功效；
(2)晶圓在流水中晃動，氣泡不能附著在其上，提高了清洗效果；
（3）N去離子水中的氧含量降低，避免在晶圓表面產生氧化物。
三、超音波清洗
QDR增強了超音波作用選項，通過式噴淋清洗線與鼓包沖浪清洗更替功效，極大的提升了清洗效率，并有效降低DI水的使用量。典型的運用方法是：上噴淋+排出→上噴淋+下進水→超聲+上噴淋+溢流→鼓包+上噴淋+溢流→快排出
四、快沖快排
噴淋灌滿水時間和排水時間，對晶圓清洗品質有很大影響。因為暴露在空氣中的晶圓表面會接觸到空氣中的氧原子或水蒸氣，一層非常薄的氧化層(約0.5~1nm），這種天然氧化物的厚度與暴露在空氣中的時間有關。因此，霧化超聲波清洗線噴水時間越長，晶圓暴露在空氣中的時間越長，形成的氧化層越厚，對晶圓清洗非常不利。QDR排水的時間越少，排水流速就會越大，有益于去離子水帶去晶圓表面里的顆粒雜質。因而，在QDR在設計中，要盡量減少噴灌時間和排水時間，完成快沖快排，提高整體效率。超音波的QDR快排及注水時間指標為：注入時間：≤120秒，排出時間：≤12秒。
