溶劑清洗是非常傳統的的方式 ，其特點是清洗速度更快，高效率非常高，溶劑自身能夠持續水蒸氣蒸餾再造，循環系統應用；但弊端也較為顯著，因為光學鏡片的工作環境規定恒溫恒濕設備，均為封閉式生產車間，溶劑的味道針對辦公環境是多少都是有一些危害，尤其是應用不封閉式的全自動清洗機器設備時。
半水基清洗是近些年逐步發展壯大完善的一種新技術新工藝，它是在傳統式溶劑清洗的根基上開展優化而獲得的。它合理地防止了溶劑的一些缺點，能夠 保證無毒性，味道輕度，廢水可排進廢水處理系統軟件；機器設備上的配套設施設備更少；應用周期比溶劑要更長；在運作成本費上比溶劑更低。
它的缺陷便是清洗的效率比溶劑偏慢，而且一定要開展浸洗。
2.鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的首要污染物質是求芯油（也稱打磨油，求芯也稱取芯.取芯，指通過式烘干線因為獲得規范的直徑及芯精密度而采用的工序）.指印.塵土等。因為U型通過式清洗線鍍膜工序對眼鏡片潔凈度等級的需求極其嚴苛，因而清洗劑的選取是很重要的。
鍍膜前的清洗一般也選用與碾磨后清洗同樣的方法，分成溶劑清洗和半水基清洗等方法。生產流程及常用有機化學藥物種類如前所述。
3.鍍膜后清洗
一般包含涂墨前清洗.接合前清洗和安裝前清洗，在其中接合前清洗（接合就是指將兩塊眼鏡片用感光粘膠連接成要求的樣子，1012超聲波清洗機以達到沒法一次生產加工成形的要求，或生產出比較特別的折射率.透光度的一道工序）規定為嚴苛。